a)
Miten spiraalimallissa ratkaistaan ohjelmiston
suorituskykyyn (performance) tai vääränlaisen
käyttöliittymän tuottamiseen (wrong user interface) liittyvä korkea
riski?
Luodaan evoluution mukainen yksityiskohtaisempi prototyyppi riskien
selvityksen jatkumiseksi.
b)
Ratkaiseeko GUIDe-malli a-kohdan ongelman käyttöliittymäriskien osalta samalla vai eri tavalla
kuin spiraalimalli? Mitä yhteistä/eroa?
Suunnitellaan koko käyttöliittymä ennen toteutuksen suunnittelua;
käyttöliittymää suunnitellaan kyllä prototyypeillä, kuten spiraalimallissakin.
c)
Ratkaiseeko GUIDe-malli käyttöliittymäriskien
lisäksi myös suorituskykyriskit? Miksi/miksei?
Suorituskykyriskit pienenevät käliriskien
mukana; hyvä käyttöliittymä parantaa myös suorituskykyä, ja suorituskykyriskit
tulevat selville kälisuunnittelun sivutuotteena.
d)
Miten vesiputousmallin mukaan etenevässä projektissa
käy silloin, kun suunnitteluvaiheessa osutaan huonosti tunnettuihin kohtiin?
Miksi tämä on ongelma?
Laaditaan kattavat ja yksityiskohtaiset dokumentit näistä huonosti
tunnetuista kohdista. Tämän jälkeen toteutusvaiheessa tuotetaan paljon
pilaantunutta koodia, kun huomataan jälkeenpäin, että on suunniteltu päin hevon
hanuria.
e)
Miksei hyvin tunnettuja kohtia kannata eritellä ja
kuvata yksityiskohtaisesti, ennen kuin epäselvät korkean riskin kysymykset (esim.
epäselvä käyttöliittymä) on ratkaistu?
Epäselvät kysymykset voivat vaikuttaa myös hyvin tunnettuihin kohtiin,
ja koska huonosti tunnetut kohdat voivat kaataa projektin ojaan, täytyy niihin
joka tapauksessa puuttua seuraavaksi; tehdään asiat oikeassa järjestyksessä.
Triviaaleja kohtia on yleensäkin turha kuvata yksityiskohtaisesti.
f)
Mitä tarkoitetaan spiraalimallin minispiraalilla
(mini spiral)? Anna esimerkki tilanteesta, jossa sitä
kannattaa käyttää.
Minispiraalilla ratkaistaan (ajoissa) kriittisen polun ongelmia, jotka
voivat vaikuttaa oleellisesti koko loppuprojektiin. Esimerkiksi ympäristön
valinta tai tekstipohjaisen ja graafisen käyttöliittymän välillä valitseminen
sopii minispiraalin ratkaistavaksi.